在半導(dǎo)體行業(yè)中，各項(xiàng)制程都能用到等離子清洗機(jī)，比如等離子去膠工藝，這個(gè)工藝會(huì)影響產(chǎn)品的處理效果，對(duì)產(chǎn)品的成品率有重要的影響，那么普樂斯給大家介紹下影響工藝效果的幾個(gè)因素。

1、射頻功率：功率決定了等離子體的能量，處理表面光刻膠時(shí)，功率越大，越能形成大量的等離子體，效率也就越高，但這是有上限的，因?yàn)槟芰吭酱螅惑w內(nèi)溫度就會(huì)越高，過高就會(huì)損壞材料，我們要選擇合適的功率。

2、氣體因素：氣體的流向、流量都會(huì)影響到產(chǎn)品處理的效果，在等離子去膠工藝中一般采用石英材質(zhì)的腔體，其它垂直留下，讓氣體更多的覆蓋材料的表面，這時(shí)候就需要考慮氣體流量，過大過小都會(huì)影響處理的效果，可以多次測(cè)試，找到合適數(shù)值，這樣就能均勻的處理，獲得好的效果。

3、清洗時(shí)間：在參數(shù)不變的狀況下，處理時(shí)間越長(zhǎng)，去除的殘膠越多，但隨著長(zhǎng)時(shí)間的反應(yīng)，腔體內(nèi)的溫度也會(huì)不斷的升高，這時(shí)候我們需要注意那些易損件，防止高溫?fù)p壞，所以清洗的時(shí)間一般控制在30秒到180秒之間。

4、腔體大小：腔體的大小決定了處理數(shù)量，裝載過多的產(chǎn)品在里面，就會(huì)讓光刻膠在等離子體中的接觸面積過低，影響處理的效果，所以腔體的設(shè)計(jì)非常重要。

這些就是常見的影響因素，我們?cè)诋a(chǎn)品設(shè)計(jì)以及生產(chǎn)的過程中都需要考慮這些問題，但是設(shè)備制造完成，我們需要對(duì)樣品進(jìn)行試樣，找到合適的參數(shù)，穩(wěn)定處理的效果，讓客戶滿意。