線(xiàn)性等離子清洗機(jī)采用大氣DBD（Dielectric Barrier Discharge）線(xiàn)性等離子體技術(shù)，在大氣壓下產(chǎn)生等離子體，利用等離子體的化學(xué)反應(yīng)和物理作用去除表面附著的有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、氧化物等污染物，達(dá)到清洗表面的目的。

線(xiàn)性等離子清洗機(jī)構(gòu)成

線(xiàn)性等離子清洗機(jī)通常由清洗室、等離子發(fā)生器、氣體控制系統(tǒng)、plc控制系統(tǒng)等部分組成。在操作時(shí)，首先將待清洗的物品放入等離子清洗室中，然后在等離子室中產(chǎn)生等離子體，等離子體會(huì)對(duì)待清洗物品表面進(jìn)行清洗。清洗完成后，將物品取出即可。

線(xiàn)性等離子清洗機(jī)特點(diǎn)

高效清洗：利用等離子體技術(shù)清洗表面，可以去除表面附著的有機(jī)物、無(wú)機(jī)物、氧化物等污染物，清洗效率高。

無(wú)需化學(xué)清洗劑：清洗過(guò)程中不需要使用化學(xué)清洗劑，對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

不會(huì)對(duì)清洗物品造成損傷：清洗過(guò)程中不會(huì)對(duì)清洗物品造成損傷，不會(huì)改變物品的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)。

線(xiàn)性等離子清洗機(jī)具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、成本低等特點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、航空航天等領(lǐng)域中對(duì)表面清洗效果要求較高的場(chǎng)合。