等離子清洗系統(tǒng)通過等離子體工藝進行表面處理的設備,通常有等離子發(fā)生器、反應室、真空泵、氣體供應系統(tǒng)、設備控制系統(tǒng)等模塊組成,主要用于解決材料表面處理問題,如:表面有機污染物、氧化物、碳化物等等。

等離子清洗系統(tǒng).png

等離子清洗系統(tǒng)特點

1、等離子清洗以氣體為原材料進行處理,是干式處理工藝,不會產(chǎn)生廢水,減少污染;

2、等離子清洗系統(tǒng)操作簡單,通過控制系統(tǒng)就能對各類參數(shù)進行操作,方便進行工作;

3、等離子清洗應用廣泛,金屬、玻璃、薄膜材料、高分子材料、布料、陶瓷、塑料等等材料都能進行處理;

4、等離子清洗系統(tǒng)成本較低,購買后使用維護費用低,使用壽命長,清洗消耗也只有電力和氣體,節(jié)省了清洗成本。

等離子清洗系統(tǒng)參數(shù)

設備型號:PM/R-80LN

操作系統(tǒng):PLC(標配)/PC(可選)

整機規(guī)格:W850×D1100×H1700mm

腔體規(guī)格:W450×D400×H450mm

等離子發(fā)生器:40KHz,0~1000W

機臺供電:三相五線式

選購品:慢速泄氣閥、慢速抽氣閥、鋼瓶減壓閥、水冷電極、冰水機、模溫機、非標法蘭、陶瓷緊固件。

以上為PM/R-80LN型號的等離子清洗系統(tǒng)參數(shù),需要注意的是,等離子清洗系統(tǒng)一般為非標制品,廠家需要根據(jù)用戶的需求進行定制。